機器の説明

  電子線ビームで試料表面を走査し、２次電子や反射電子を検出することによって像を得る電子顕微鏡です。　透過型と比べ、試料の表面観察に有効で比較的手軽に行える利点があります。本装置ではサーマル電界拡散型電子銃，開き角自動最適化レンズなどの搭載により100 万倍の高倍率を実現しています。
また、附属のEBSD【後方電子回折図形】局所結晶方位解析装置，EDS【エネルギー分散型X線分析】元素分析装置により試料の微細構造観察はもちろんの事、ナノスケールの微小領域において結晶方位の局所解析や局所領域の定量分析が容易に行えます。観察試料の作製のために、断面試料作製装置や精密イオン研磨機など周辺装置も用意しています。新規材料の検査・評価をはじめ、生体由来の試料の観察などにも活用されています。

設置場所など